较高使用温度1700℃
常用较高使用温度1500℃
较高升温速率280℃/S
加热长度1700mm
使用方式水平聚焦
额定电压220V、380V
额定功率1.2—24KW
重量22.5KG
快速红外辐射聚焦炉广泛应用于电子、半导体、塑料、食品、医药等行业中的加热、干燥、固化等工艺过程，具有节能、环保等优点，是现代工业生产中不可缺少的一种加热设备。
快速红外辐射聚焦炉是一种利用红外线辐射进行加热的设备，其特点是能够快速将热量集中在加热物体上，从而实现快速加热。
快速红外辐射聚焦炉是一种采用红外线作为热源的加热设备，它通过聚焦红外线辐射能量，将其集中在物体表面，使物体迅速加热。其特点是加热速度快、效率高、能耗低、温度控制精度高、操作简便、环保等。
快速红外辐射聚焦炉主要应用于电子、光电、半导体、塑料、化工、食品等行业的加热、干燥、固化等工艺。例如，它可以用于半导体芯片的烘烤、PCB板的预热、塑料制品的加热成型、食品的烘烤干燥等。
快速红外辐射聚焦炉是一种利用红外线辐射加热的设备，其特点是能够快速加热和冷却，热效率高，能耗低，适用于高温、高速加热的工业生产过程。该炉具有辐射器和反射器两个主要部分，辐射器通过电磁波产生红外线辐射，反射器则将辐射聚焦在加热区域内，从而实现快速、均匀的加热。该炉广泛应用于食品加工、玻璃、陶瓷、塑料、橡胶、电子、化工等行业。
快速红外辐射聚焦炉是一种利用红外辐射进行加热的设备，其特点是具有快速加热、节能、易于控制等优点。该炉采用的红外辐射加热技术，能够快速将物体表面加热到所需温度，且加热效率高，能够节省能源。同时，该炉具有精密的温度控制系统，能够实现的温度控制，保证加热过程的稳定性和可靠性。快速红外辐射聚焦炉广泛应用于工业加热领域，如电子、光电、半导体、化工、医药、食品等行业。
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